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EUV微影
極紫外光半導體製程核心技術
極紫外光（Extreme Ultraviolet）微影技術，使用13.5奈米波長光源進行晶圓曝光，是7奈米以下先進製程不可或缺的關鍵技術。全球EUV設備幾乎由荷蘭ASML壟斷，中國至今無法取得，構成半導體供應鏈最重要的技術卡點之一。
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